Charakterisierung von Dünnschichtsystemen

Themenvorschlag für Bachelorarbeit / Themenvorschlag für Masterarbeit
Diffusionsbarrieren, Haft- und Saatschichten sind wichtige funktionale Schichten in der Mikroelektronik. Sie dienen dazu, die Kupferdiffusion von den Metallbahnen in das Dielektrikum und die Sauerstoffdiffusion vom Dielektrikum in die Kupferbahnen zu verhindern sowie die nachfolgende elektrochemische Abscheidung zu ermöglichen. Die kleinsten Metallbahnen auf einem Computerchip sind nur 45 nm breit, so dass für die jeweilige Schichtdicke nur wenige Nanometer zur Verfügung stehen.
Ziel eines aktuellen Forschungsprojektes ist es, Dünnschichtabscheidungen mittels PVD, CVD oder ALD zu optimieren und die Materialeigenschaften zu charakterisieren. Dazu sollen im Rahmen einer Bachelor-/Master-/Diplomarbeit folgende Aufgaben gelöst werden:

• Literaturrecherche bezüglich Möglichkeiten und Grenzen der Dünnschichtanalyse
• Mithilfe bei der Planung von Abscheide-Experimenten auf 300-mm-Wafern an einer vorhandenen Industrieanlage
• Durchführung von insitu-XPS-Analysen an hergestellten Dünnschichten
• Anwendung und Durchführung verschiedener Waferanalysemethoden (SEM/TEM, EDX, AFM, Widerstandsmessung) und Auswertung der Messergebnisse

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Unternehmen

Thesius Inspiration

Abschlussart

Bachelorarbeit / Masterarbeit

Branche

Elektrotechnik

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