Optimierung des Sputterprozesses für oxidische Dünnschichten mit Hilfe eines optischen Spektrometers

Ziel der Arbeit ist die Herstellung von dünnen oxidischen Schichten mit Hilfe einer Hochdrucksputteranlage. Während des Aufwachsprozesses soll mit Hilfe eines Spektrometers das Wachstum auf Rate und Stöchiometrie kontrolliert und optimiert werden. Zur Auswertung der Schichten werden Standardmethoden wie Röntgenreflektometrie und –diffraktometrie, Rutherfordrückstreuung und Rasterkraftmikroskopie zum Einsatz kommen. Für deine Erfolgreiche Arbeit ist es notwendig, das Spektrometer in die bestehende Wachstumssoftware zu integrieren und einen geeigneten mechanischen Aufbau zu erstellen.

Die Lücke zwischen Forschung und Industrie soll mittels dieser Arbeit geschlossen werden. Dazu wird die Einführung des IEK-3-Konzeptes für Deutschland anhand von Modellregionen analysiert und bewertet. Die Modellregionen orientieren sich an den von der Westnetz GmbH bereitgestellten Daten und können daher bei positiver Analyse der Arbeit in ein tatsächlich ausgeführtes Projekt münden.

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Unternehmen

Thesius Inspiration

Abschlussart

Bachelorarbeit

Branche

Forschung und Entwicklung

Schlagwörter

Regenerative Energien Wirtschaftsingenieurwesen Maschinenbau Verfahrenstechnik Elektrochemische Verfahrenstechnik

Zusatzinformationen

Bitte senden Sie Ihre Bewerbung an:

Dr. Alexander Weber
JCNS-2, PGI-4, Institut für Streumethoden
al.weber@fz-juelich.de

oder

Markus Waschk
m.waschk@fz-juelich.de